台积电 2nm 良率领先,英特尔追赶三星
7 月 15 日

台积电英特尔三星当前在 2nm 制程节点的良率分别为 65%、55% 和 40%。英特尔的良率较上季度提升了 5 个百分点,预计有助于其年内完成 Panther Lake 处理器的发布目标。分析师预测,英特尔代工业务有望比三星更早实现 65~70% 的 2nm 工艺良率,但届时台积电的 N2 工艺良率预计将更高,可达 75%。英特尔计划于 2026 年下半年量产改进版 Intel 18A-P 工艺,并有望增强市场对其代工服务的信心。此外,英特尔在 Intel 18A-P 阶段不太可能放弃对外代工服务。

专业版功能专业版功能
登录
体验专业版特色功能,拓展更丰富、更全面的相关内容。

行业标签

二维码

更多体验

前往小程序

二维码

24 小时

资讯推送

进群体验

logo
科技新闻,每天 3 分钟