台积电2nm良率领先,英特尔追赶三星
7 月 15 日

台积电英特尔三星当前在2nm制程节点的良率分别为65%、55%和40%。英特尔的良率较上季度提升了5个百分点,预计有助于其年内完成Panther Lake处理器的发布目标。分析师预测,英特尔代工业务有望比三星更早实现65~70%的2nm工艺良率,但届时台积电的N2工艺良率预计将更高,可达75%。英特尔计划于2026年下半年量产改进版Intel 18A-P工艺,并有望增强市场对其代工服务的信心。此外,英特尔在Intel 18A-P阶段不太可能放弃对外代工服务。

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