三星电子计划投资 1.1 万亿韩元引进最新的 High-NA EUV 光刻机
10 月 16 日

三星电子计划投入约 1.1 万亿韩元引进两台最新的 High-NA 双级极紫外(EUV)光刻机,此前仅在京畿道园区引进过一台用于研发的该设备,此次引进的将用于「产品量产」,计划年内引进一台,明年上半年再引进一台。

专业版功能专业版功能
登录
体验专业版特色功能,拓展更丰富、更全面的相关内容。

行业标签

二维码

更多体验

前往小程序

二维码

24 小时

资讯推送

进群体验

logo
科技新闻,每天 3 分钟