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光刻机概念局部回暖,新莱应材涨超 10%
10 月 10 日
午后光刻机概念局部回暖,
新莱应材
涨超 10%,
利和兴
、
至纯科技
等跟涨。
A 股部分光刻机概念股走强,新莱应材涨超 14%
格隆汇
A 股光刻机概念局部异动,新莱应材涨超 10%,利和兴、至纯科技、广信材料、雅克科技、波长光电等跟涨。
华尔街见闻
光刻机概念局部回暖,新莱应材涨超 10%
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