三星计划削减对High-NA EUV光刻机的采购，并与ASML共同创建的研究中心项目遇到困难。原本三星计划在未来10年内采购多款High-NA光刻机，但现在仅计划采购EXE:5200。这一决定是在公司高层人事变动和项目审查后做出的。同时，相关研究中心的建设进程也因设备引进减少而停止。研究中心的未来位置和是否继续建设将在进一步讨论中决定。