中微公司全球首台高选择性刻蚀设备顺利付运

中微公司宣布 Primo Domingo 气相高选择性刻蚀设备全球首台机顺利付运国内重要集成电路研发制造客户。当前芯片架构三维化是支持芯片持续缩微的重要动能，高选择性刻蚀工艺是三维器件制造的最关键工艺之一。中微公司针对 GAA、3D NAND、3D DRAM 等器件工艺需求，在高选择性刻蚀设备领域取得重要突破，填补了国内在下一代 3D 半导体器件制造中关键刻蚀工艺的自主化空白。