SK 海力士正探索 HBM4 新封装技术,剑指英伟达顶级性能目标3 月 3 日SK 海力士正在开发针对下一代高带宽内存的封装创新技术,推进一项封装架构改良方案,包括增加 DRAM 芯片厚度、缩小 DRAM 层间距,目前处于验证阶段。该技术旨在突破 HBM4 性能瓶颈,若成功商业化有望达成英伟达对 HBM4 设定的顶级性能指标,巩固 SK 海力士技术领先优势,为下游客户提供更具竞争力的方案。其优势在于低资本投入,但扩展至大规模量产可能面临挑战,技术稳定性与工艺一致性待解,商业化时间表尚未明确。同时提示市场有风险,投资需谨慎。消息称 SK 海力士探索 HBM4 全新封装技术,通过缩小 DRAM 间隙提升性能新浪科技 / IT 之家报道:SK 海力士正探索 HBM4 新封装技术,剑指英伟达顶级性能目标华尔街见闻SK 海力士推进全新 HBM 封装技术,或缩小 DRAM 层间距36Kr展开全部报道专业版功能登录体验专业版特色功能,拓展更丰富、更全面的相关内容。