TechInsights分析显示，ASML的0.33 NA EUV光刻机功耗为1170 kW，而0.55NA光刻机功耗预计将达1400 kW。目前全球31家晶圆厂使用EUV光刻机，预计到2030年将增至59家，设备数量也将翻倍。2030年，全球EUV光刻机将消耗6100 GWh电力，与卢森堡和柬埔寨2020年的全国用电量相当。然而，EUV光刻机仅占晶圆厂总用电量的11%，其他设备和系统也对环境产生显著影响。半导体行业面临能源效率的挑战，需要在满足先进芯片需求与减少能源环境影响之间找到平衡。