比利时微电子研究中心（IMEC）和阿斯麦（ASML）在荷兰费尔德霍芬联合开设了High-NA EUV光刻实验室，配备了一台原型高数值孔径EUV扫描仪和配套工具，旨在支持全球领先的芯片制造商和供应商。该实验室被视为High-NA EUV技术大规模量产准备的重要里程碑，预计2025-2026年将实现大规模应用。阿斯麦已展示体积庞大、重量达150吨的High NA EUV光刻机，其制造成本高昂，但对实现2nm以下先进制程的大规模量产至关重要。