李在镕:三星计划利用全球首个3纳米工艺制造芯片
2020 年 1 月 2 日

三星公司称,三星继承人李在镕称,该公司计划采用正在开发的最新3纳米全栅极(GAA)工艺技术来制造尖端芯片,并提供给全球客户 … 该公司表示,与5纳米工艺相比,3纳米GAA技术的逻辑面积效率提高了35%以上,功耗降低了50%,性能提高了约30%。

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